A fabricante holandesa de equipamentos para semicondutores ASML e a taiwanesa TSMC fecharam uma parceria estratégica para desenvolver fotomáscaras de maior dimensão voltadas à litografia ultravioleta extrema (EUV, na sigla em inglês). Matéria exclusiva para assinantes. Para ter acesso completo, acesse o link da matéria e faça o seu cadastro.
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